熱門搜索:
P760/01_2760nm單模垂直腔面發(fā)射激光器
VCSEL-20-M激光控制驅(qū)動(dòng)器
ZNSP25.4-1IR拋光硫化鋅(ZnS)多光譜(透明)窗片 0.37-13.5um 25.4X1.0mm(晶體/棱鏡
CO2激光光譜分析儀
Frequad-W.CW DUV 單頻連續(xù)激光器 213nm 10mW Frequad-W
中紅外QCL激光器QCL8600FP高功耗臺(tái)式FP-QCL
IRV2000-1X1倍紅外觀察鏡 350-2000nm,分辨率 60lp/mm
THL-ZnTe20-500RZNTE(碲化鋅)太赫茲晶體
NANOFIBER-400-9-SA干涉型單模微納光纖傳感器 1270-2000nm
SNA-4-FC-UPC日本精工法蘭
ER40-6/125截止波長1300nm 高摻雜EDF摻鉺光纖
高能激光光譜光束組合的光柵 (色散勻化片)
1030nm超短脈沖種子激光器PS-PSL-1030
GD5210Y-2-2-TO46905nm 硅雪崩光電二極管 400-1100nm
FLEX-BF裸光纖研磨機(jī)
VCSEL-795-0.13795 nm , VCSEL單模垂直腔面發(fā)射激光器
當(dāng)前位置:首頁
產(chǎn)品中心
加工定制服務(wù)
大型儀器設(shè)備
product
產(chǎn)品分類uFAB-3D-微納米打印系統(tǒng)(大型儀器設(shè)備) 產(chǎn)品總覽 uFAB-3D-微納米打印系統(tǒng)是公司推出的優(yōu)秀代微納米打印系統(tǒng),系統(tǒng)采用微片亞納秒激光器,體積小結(jié)構(gòu)緊湊,通過雙光子聚合原理,實(shí)現(xiàn)Min. 的分辨率。采用電機(jī)可實(shí)現(xiàn)內(nèi)高度的打印。支持客戶定制。
更新時(shí)間:2024-12-28
產(chǎn)品型號(hào):
瀏覽量:238
無掩模光刻系統(tǒng)Smart Printer UV(大型儀器設(shè)備) 產(chǎn)品總覽 Smart Print UV是一款基于μLCD投射技術(shù)的無掩模光刻技術(shù)。Smart Print UV適用于大多數(shù)的感光膠和基底,因此可以產(chǎn)生任何微米級(jí)分辨率的2D形狀而無需實(shí)體的掩模版。
更新時(shí)間:2024-12-28
產(chǎn)品型號(hào):
瀏覽量:266
桌面臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng) 電動(dòng) PALET DDB-701-DL(大型儀器設(shè)備) 產(chǎn)品總覽 桌面尺寸無掩模(直接曝光)光刻系統(tǒng),通過其復(fù)雜的軟件支持簡單的光刻操作。 產(chǎn)品特點(diǎn)
更新時(shí)間:2024-12-08
產(chǎn)品型號(hào):
瀏覽量:908
桌面臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng) 手動(dòng) PALET DDB-701-MS(儀器設(shè)備) 產(chǎn)品總覽 桌面尺寸無掩模(直接曝光)光刻系統(tǒng),通過其復(fù)雜的軟件支持簡單的光刻操作。
更新時(shí)間:2024-12-08
產(chǎn)品型號(hào):
瀏覽量:1002
無掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機(jī),365nm波長 直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件 全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻,易于使用
更新時(shí)間:2024-12-05
產(chǎn)品型號(hào):
瀏覽量:1516