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產(chǎn)品中心
光學(xué)無源器件
光柵微透鏡陣列色散勻化片
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產(chǎn)品分類光纖耦合微透鏡線陣列(色散勻化片) 使用 PowerPhotonic 光纖微透鏡陣列可簡化光纖的準(zhǔn)直和耦合。PowerPhotonic 標(biāo)準(zhǔn)微透鏡陣列專為 SMF-28 單模光纖的耦合或準(zhǔn)直而設(shè)計。多通道光通信系統(tǒng)需要微透鏡陣列來耦合激光源、光纖和波導(dǎo)陣列、光復(fù)用和光交換。這些微透鏡陣列由熔融石英制成,由于散射極低,可Max. 限度地減少通道串?dāng)_,并且由于表面精度,可Max. 限度地減少插入損耗。
透射衍射光柵( 光柵微透鏡陣列) PGL的光柵曝光和蝕刻工藝產(chǎn)生十分光滑、均勻和深的光柵槽,可忽略衍射波前畸變,具有高均勻性和衍射效率。
多層介質(zhì)(MLD)衍射光柵(光柵微透鏡陣列) 十多年來,PGL一直為shi界上許多Max. 的超高強(qiáng)度激光裝置提供MLD光柵。薄膜涂層與光柵設(shè)計和制造的結(jié)合可以大大提高衍射效率、激光損傷閾值和壓縮短脈沖的波前。 脈沖壓縮光柵有非常苛刻的要求——除了嚴(yán)格的平坦度和損傷閾值要求外,它們還必須在高真空下運(yùn)行。在這些條件下,涂層厚度可達(dá)40層,必須仔細(xì)控制涂層應(yīng)力,因為過大的壓縮應(yīng)力會使基材變形,而過大
鍍金衍射光柵( 光柵微透鏡陣列) PGL為金涂層開發(fā)的工藝在精確特征上提供了保形層狀涂層。與光刻膠光柵上的金相比,蝕刻熔融石英上的金提供了更好的性能特征和均勻性。金在玻璃光柵上的散射較低,并且已被證明在脈沖展寬器中比基于抗蝕劑的光柵表現(xiàn)出更好的時間對比度。
混合金屬-電介質(zhì)衍射光柵(光柵微透鏡陣列)混合光柵是多層電介質(zhì)(MLD)和金光柵之間的交叉。與MLD光柵一樣,它們由高反射鏡上的全電介質(zhì)部分透射光柵組成;然而,混合光柵利用金屬鏡而不是電介質(zhì)鏡。因此,這種類型的光柵原則上可以實現(xiàn)MLD和金光柵的z佳性能特性。金屬鏡的寬頻帶和相位特性使混合光柵能夠?qū)崿F(xiàn)非常寬的光譜寬度,相當(dāng)于甚至比金光柵更寬,具有更高的衍射效率。在全介質(zhì)光柵區(qū)域,混合光柵的激光誘導(dǎo)損