硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）
ZnSe 廣泛用于紅外元件、窗口和透鏡以及光譜 ATR 棱鏡。硒化鋅是 10.6 微米 CO2 激光光學(xué)器件的Shou選材料之一。
ZnSe（硒化鋅）化學(xué)氣相沉積（CVD）材料是由鋅蒸氣和H2Se氣體合成而成的，在石墨基座上形成片狀（ZnSe-CVD工藝）。CVD-ZnSe的化學(xué)純度為99.999％。

產(chǎn)品型號：ZNSE25.4LENS500AR

更新時間：2025-01-14

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光學(xué)無源器件

包層光剝離器(CPS) 色散補償模塊及跳線濾波片/濾光片光環(huán)形器其他光學(xué)無源器件光束整形變形鏡螺旋相位板光衰減器延遲線濾波器/標(biāo)準(zhǔn)具光纖耦合器非線性模塊/倍頻/波長轉(zhuǎn)換光隔離器/光旋轉(zhuǎn)器/旋轉(zhuǎn)鏡光柵微透鏡陣列色散勻化片偏振器件/偏振測量調(diào)制反射鏡晶體/棱鏡/窗片透鏡、準(zhǔn)直器分光鏡分束合束器波分復(fù)用

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硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）

ZnSe 廣泛用于紅外元件、窗口和透鏡以及光譜 ATR 棱鏡。硒化鋅是 10.6 微米 CO2 激光光學(xué)器件的Shou選材料之一。

ZnSe（硒化鋅）化學(xué)氣相沉積（CVD）材料是由鋅蒸氣和H2Se氣體合成而成的，在石墨基座上形成片狀（ZnSe-CVD工藝）。CVD-ZnSe的化學(xué)純度為99.999％。它具有多晶結(jié)構(gòu)?？刂莆\CVD材料的晶粒尺寸以產(chǎn)生Max. 的強度和可加工性。

ZnSe 在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析ATR 棱鏡領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。硒化鋅(Zinc Selenide)對于CO2激光器的元器件也是一種良好的選擇。在CO2激光器工作的波段10.6 microns附近有著良好的透射率。硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結(jié)晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學(xué)氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質(zhì)吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統(tǒng)中光學(xué)器件的優(yōu)選材料。此外在其整個透光波段內(nèi), 也是在不同光學(xué)系統(tǒng)中所普遍使用的材料。硒化鋅材料對熱沖擊具有很高的承受能力, 使它成為高功率CO2激光器系統(tǒng)中的優(yōu)秀光學(xué)材料。硬度只是多光譜級ZnS的2/3, 材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕, 而且材料折射率較大, 所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內(nèi), 散射很低。在用做高功率激光器件時, 需要嚴(yán)格控制材料的體吸收和內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷, 并采用Min. 破壞程度的拋光技術(shù)和zui高光學(xué)質(zhì)量的鍍膜工藝。

硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）

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